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內層線路濕膜曝光

★深耕內層濕膜領域,專用濕膜加工效率大突破,高達10500片/天

★搭配優質高功率復合波長激光光源,實現不同感光材料的高適配性

★搭載優化標靶識別系統

★曝光工序全數字化作業,跨入工業4.0智能制造

技術參數
  • 最大曝光尺寸

    大臺面:24.5"×28.5"

    標準臺面:22"×24.5"

  • 層間對位精度

    ±25μm 

  • 光源

    405nm

  • 板厚

    單機:0.05-5.0mm

    連線:0.075-2.5mm

  • 景深

    ±300μm

  • 線寬精度

    ±10%

  • 對位精度

    ±12μm

  • 適配性

    適配于智能制造系統

  • 生產效率

    單機:300面/小時

    連線:7000panels/day

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